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碳化矽邊緣終結結構之摻雜濃度梯度效應之模擬 = = Simulation...
~
林暐智
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碳化矽邊緣終結結構之摻雜濃度梯度效應之模擬 = = Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
碳化矽邊緣終結結構之摻雜濃度梯度效應之模擬 =/ 林暐智撰
其他題名:
Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure /
其他題名:
Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure
作者:
林暐智
其他作者:
劉耿銘
出版者:
花蓮縣 :國立東華大學電機工程學系, : 2023,
面頁冊數:
82面 :圖,表 ;30公分
附註:
校內電子全文開放日期:2025/11/23
標題:
4H-SiC -
電子資源:
http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610923015.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)
碳化矽邊緣終結結構之摻雜濃度梯度效應之模擬 = = Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure /
林暐智
碳化矽邊緣終結結構之摻雜濃度梯度效應之模擬 =
Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure /Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure林暐智撰 - 花蓮縣 :國立東華大學電機工程學系, 2023 - 82面 :圖,表 ;30公分
校內電子全文開放日期:2025/11/23
碩士論文--國立東華大學電機工程學系, 2023
含參考書目Subjects--Topical Terms:
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4H-SiC
碳化矽邊緣終結結構之摻雜濃度梯度效應之模擬 = = Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure /
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Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure
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指導教授:劉耿銘
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電子全文(依作者授權而定)
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館藏地:
全部
壽豐校區(SF Campus)
出版年:
卷號:
館藏
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1
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GE0220709
壽豐校區(SF Campus)
01.外借(書)_YB
本校碩士論文
T 448.6 4468 2023
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