碳化矽邊緣終結結構之摻雜濃度梯度效應之模擬 = = Simulation...
林暐智

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  • 碳化矽邊緣終結結構之摻雜濃度梯度效應之模擬 = = Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 碳化矽邊緣終結結構之摻雜濃度梯度效應之模擬 =/ 林暐智撰
    其他題名: Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure /
    其他題名: Simulation of doping concentration gradient effect on silicon carbide edge termination structure
    作者: 林暐智
    其他作者: 劉耿銘
    出版者: 花蓮縣 :國立東華大學電機工程學系, : 2023,
    面頁冊數: 82面 :圖,表 ;30公分
    附註: 校內電子全文開放日期:2025/11/23
    標題: 4H-SiC -
    電子資源: http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610923015.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
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GE0220709 壽豐校區(SF Campus) 01.外借(書)_YB 本校碩士論文 T 448.6 4468 2023 一般使用(Normal) 編目處理中 0
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